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Xylem wtw NiCaVis701 IQ NI Manual De Funcionamiento página 39

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NiCaVis 70x IQ NI
Ejemplo 1
Ejemplo 2
ba75988s02
11/2022
5.2.2 Medidas generales que deben adoptarse
Dependiendo del lugar de aplicación y del nivel de contaminación del sensor,
así como del trabajo que se vaya a realizar, el procedimiento de limpieza incluye
las siguientes partes:
 Todo procedimiento de limpieza comienza con una limpieza básica. Elimina
la suciedad resistente, como incrustaciones de materias incrustantes, algas
y depósitos biológicos. Si la superficie del sensor puede estar contaminada
con gérmenes patógenos, también debe desinfectarse.
 Limpieza de la hendidura de medición: eliminación de depósitos de cal.
 Limpieza de la hendidura de medición: Eliminación de depósitos de grasa.
Un sensor muy sucio para el que se vaya a realizar un Verificacion o Ajuste de
cero debe pasar por todos los pasos de limpieza a fondo. Durante el proceso de
limpieza, mantenga siempre húmedas todas las superficies para evitar que la
contaminación ya disuelta y los detergentes se sequen ("trabajar húmedo sobre
húmedo"). Por último, aclare a fondo todos los restos de productos de limpieza
con agua ultrapura.
Si el sensor del ejemplo 1 debe limpiarse in situ durante una inspección visual
rutinaria y luego debe seguir midiendo, posiblemente baste con una limpieza
básica.
Los ejemplos citados y las descripciones siguientes pretenden dar
una orientación general. Debido al amplio campo de aplicación del
sensor, el tipo y el nivel de contaminación pueden variar considera-
blemente. Por lo tanto, el procedimiento de limpieza debe compo-
nerse individualmente. Si es necesario, hay que cambiar o repetir
varias veces los pasos de limpieza hasta que el resultado cumpla
los requisitos.
Mantenimiento y limpieza
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