Especificações; Temperaturas Ambiente/Operacional - Siemens SITRANS LR200 Manual De Instrucciones

Especificações
Para obter uma listagem completa, consulte o Manual de Instruções do SITRANS LR200
(PROFIBUS PA). Para informações de Aprovações, consulte a placa de identificação do
dispositivo e o rótulo do dispositivo de processo.

Temperaturas Ambiente/Operacional

Observações:
• A temperatura de processo e as capacidades de pressão dependem das informações na
etiqueta do dispositivo de processo. A ilustração de referência relacionada no rótulo de
identificação pode ser baixada do site da Siemens: www.siemens.com/LR200.
• A temperatura máxima depende da conexão do processo, materiais da antena e pressão
do vaso. Consulte
mais detalhes. As curvas de diminuição da Temperatura de Pressão do Processo estão
disponíveis no manual completo.
temperatura ambiente (ao redor da caixa)
-40 °C a +80 °C (-40 °F a +176 °F)
temperatura do processo
Haste dupla:
–40 °C a +80 °C (–40 °F a +176 °F)
Haste PTFE ou antena SS:
–40 °C a +200 °C (–40 °F a +392 °F)
Alimentação
• Ativado por barramento Conforme IEC 61158-2 (PROFIBUS PA)
• Corrente consumida
Certificações
• Geral CSA
• Rádio Europa (R&TTE), EUA (FCC), Canadá (Industry Canada)
• Perigoso
Não-inflamável (EUA)
Segurança Intrínseca
Utilize selos de conduíte adequados para manter a classificação de IP ou
Observação:
NEMA.
1)
Instalação elétrica não inflamável (somente para FM/EUA)
Consulte
2)
Instalação elétrica com Segurança Intrínseca
Consulte
7ML19985XD81
Gráfico de Temperatura Máxima do Processo
10,5 mA (Finalidade Geral ou versão de Segurança Intrínseca)
, FM, CE
US/C
1)
2)
(Europa)
(EUA/Canadá)
SITRANS LR200 (PROFIBUS PA) – MANUAL DE INÍCIO RÁPIDO Página PT-BR-3
FM:
Classe I, Div. 2, Grupos A, B, C, D, T5
ATEX II 1 G, EEx ia IIC T4
FM/CSA: (barreira necessária)
Classe I, Div. 1, Grupos A, B, C, D
Classe II, Div. 1, Grupos E, F, G
Classe III T4
(continua na página seguinte)
na página 16.
na página 16.
na página 21 para obter
placa de identificação
do dispositivo
rótulo do
dispositivo de
processo