Detax implantlink semi Classic Modo De Empleo página 15

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implantlink® semi Xray – radio-opaque avec adhérence renforcée et résistance à la pression.
traitement
1. PréParation et nettoyage des struCtures d'imPlant et des surFaCes intérieures de la restauration
Vérifier la précision d'adaptation et l'absence de tension, l'occlusion et les points de contact avant de procéder à l'insertion. Dégraisser,
nettoyer (par ex. avec des solutions alcoolisées) et bien sécher le pilier et la superstructure avant le scellement par adhérence (ill. 1).
2. mélange et aPPliCation
L'extrusion est effectuée avec le système mini-mix. Insérer le sceau dans le corps de cartouche. Enlever le bouchon de la cartouche en le
tournant. Avant de poser la canule de mélange, faire sortir une petite quantité du matériau, jusqu'à ce qu'il sorte des deux orifices d'une
manière homogène (ill. 2). Ajuster la canule de mélange en suivant les guides de la canule et de la cartouche, puis la bloquer en tournant
dans le sens inverse des aiguilles d'une montre (ill. 3). Expulser le matériau en exerçant une pression régulière. Avant toute utilisation,
appliquer une petite quantité de matériau et vérifier visuellement que le mélange de la pâte de base et du catalyseur est homogène (ill. 4).
Ce n'est qu'alors que le dosage personnalisé est possible. Après utilisation, laisser la canule de mélange en place pour servir de bouchon.
3. insertion de la restauration
Appliquer une fine couche d'implantlink® semi sur la face interne de la superstructure (ill. 5). Mettre immédiatement en position sur
la structure d'implant avec une légère pression (ill. 6), puis appuyer fermement. Après 2 à 3 minutes environ, éliminer le matériau en
excès avec un instrument adapté (ill. 7).
4. temPs de traVail/PhotoPolymérisation
Le temps de travail à température ambiante est d'environ 60 secondes. Le durcissement à température du corps s'effectue en 5 à 6 minutes.
Si une exposition directe est possible, la prise peut être favorisée et accélérée à n'importe quel moment par photopolymérisation (zone
latérale, matériau en excès). Pour ce faire, une exposition de 20 secondes par surface est recommandée (ill. 8). Dans le cas des matériaux
translucides (par ex. couches minces de céramiques, matériaux provisoires de type base et catalyseur), il est aussi possible d'effectuer
une exposition à travers le matériau, avec une durée d'exposition prolongée à 30 - 40 secondes par surface.
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Implantlink semi forteImplantlink semi xray

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