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COLLEGAMENTO
IDRAULICO
Parametri acqua
Valori massimi ammissibili per
l'acqua utilizzata all'interno di
un circuito chiuso di raffredda-
mento o riscaldamento.
Nei circuiti aperti (ad esempio
quando si utilizza acqua di
pozzo), l'acqua utilizzata deve
essere ripulita dai materiali
in sospensione per mezzo di
un filtro che deve trovarsi in
ingresso (altrimenti c'è il rischio
di erosione da particelle in
sospensione). È inoltre neces-
sario assicurarsi che l'unità
sia protetta da polvere e altre
sostanze che provocano una
reazione acida o alcalina quando
combinate con l'acqua (corro-
sione dell'alluminio).
Schema di alimentazione
con acqua calda o surriscaldata.
IN = MANDATA
OUT = RITORNO
A = INSTALLAZIONE
A SOFFITTO
B = INSTALLAZIONE
A PARETE
Per evitare perdite utilizzare
canapa e pasta verde per colle-
gare tanto in entrata quanto in
uscita l'apparecchio, con un giun-
to a 3 pezzi e valvola a sfera.
PRESSIONE MAX.
DI ESERCIZIO:
A
C = 16 BAR
tlAs
AIX / E
V = 20 BAR
Xport
ATTENZIONE!
METTERE
UNO SFIATO D'ARIA
NEL CASO CHE L'ANELLO
DI DISTRIBUZIONE
DELL'ACQUA
O DEL FLUIDO SIA IN
UNA POSIZIONE INFERIORE
RISPETTO A QUELLA
DELL'APPARECCHIO.
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WATER
CONNECTION
Water parameter
Limit values for the water used
in closed heating and cooling
circuits.
On open system (e.g. when
using well water), the water
used should be cleaned from
suspended matter by means of
a filter which should be located
in the inlet. Otherwise there is a
risk of erosion due to suspended
matter. You must also ensure that
the unit is protected from dust
and other substances that cause
an acid or alkali reaction when
combined with water (aluminum
corrosion).
Diagram for the warm water
and hot water supply.
IN = FLOW
OUT = RETURN
A = CEILING
INSTALLATION
B = WALL
INSTALLATION
Connect the appliance
at the inlet and at the outlet
with a three-part joint and
a ball valve; seal with hemp
and green paste.
MAXIMUM
OPERATION PRESSURE:
A
C = 16 BAR
tlAs
AIX / E
V = 20 BAR
Xport
ATTENTION!
MOUNT
AN AIR BREATHER, IF
THE DISTRIBUTION RING
OF THE WATER
OR THE FLUID
IS IN A LOWER POSITION
THAN THE APPLIANCE.
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