Ajuste Del Enfoque; Ajuste De La Distancia Interpupilar - Labomed Lx POL Manual De Usuario

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AJUSTE DEL ENFOQUE

Fig. 30
Aumento del objetivo
N.A.
2.5x (9124002)
0.08
4x (9124005)
0.10
10x (9124010)
0.25
20x (9124010)
0.45
40x (9124010)
0.65
100x (aceite) (9124010)
1.25
3
AJUSTE DE LA DISTANCIA INTERPUPILAR (IPD)
Fig. 31
9151000-795
Procedimiento de enfoque (Figura 30)
1. Girar el tornillo macrométrico (1) en el sentido de las agujas del reloj para que el
objetivo (3) esté lo más cerca posible de la muestra (se recomienda iniciar con 10X).
2. Mientras se hace la observación de la muestra a través de los oculares, girar
lentamente el tornillo macrométrico (1) en sentido contrario a las agujas del reloj
para bajar la platina.
3. Cuando se obtiene el enfoque macrométrico de la muestra (se observa una imagen),
girar el tornillo micrométrico (2) para obtener un enfoque de detallado.
Distancia de trabajo (WD)
La distancia de trabajo (WD, por sus siglas en inglés) se refiere a la distancia que hay
entre cada objetivo y la muestra una vez que se obtiene el enfoque agudo de la muestra.
OBJETIVOS
W.D.
Cubreobjetos
(mm)
20.0
0.17
30.0
0.17
4.04
0.17
1.10
0.17
0.45
0.17
0.14
0.17
El ajuste de la distancia interpupilar (IPD, por sus siglas en inglés) consiste en regular
los dos oculares para alinearlos con las pupilas de ambos ojos, de modo que se pueda
observar una imagen de microscopio a través de dos oculares en visión estereoscópica.
Esto ayuda enormemente a reducir la fatiga y el malestar durante la observación.
Mientras se hace la observación a través de los oculares, mover ambos tubos oculares
de forma lateral hasta que los campos de visión izquierdo y derecho coincidan por
completo. La posición del punto índice (•) indica el valor de la distancia interpupilar.
Considerar la distancia interpupilar personal, de manera tal que pueda ser consultada
rápidamente en el futuro. Esto sucede cuando varios usuarios trabajan con el
microscopio.
OCULAR
10x/20 W.F. (4140010)
Resolución
Aum.
Campo de
(μm)
total
obs./mm
5.0
25x
8.0
3.36
40x
5.0
1.34
100x
2.0
0.75
200x
1.0
0.52
400x
0.50
0.27
1000x
0.20
Lx POL
Lx POL
CONDENSADOR ABBE
Profundidad
Posición de
Obj.
de enfoque
giro
N.A.
(μm)
(Dentro/Fuera)
400
0.08
Fuera
200
0.10
Fuera
30
0.25
Fuera
6
0.45
Dentro
3
0.65
Dentro
0.70
1.25
Dentro
Versión 1.3
Impreso en abril de 2019
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