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Referencia: hace referencia a una función del software de administración de puntos finales
que permite emitir dos niveles de dosis de energía dentro de un mismo patrón. Cuando
EpM está habilitada, el usuario puede habilitar patrones de referencia si así lo desea.
Cuando EpM está habilitada, los puntos más exteriores (las exposiciones de referencia)
del patrón se establecen en el 100 % de la dosis (en la pantalla Treatment (Tratamiento),
la potencia nominal y la duración de la exposición aparecen al 100 %), mientras que los
puntos interiores se emiten en el porcentaje de EpM que haya establecido en ese momento.
Cuando EpM está habilitada, pero las referencias están deshabilitadas, todo el patrón
se emite en el porcentaje de EpM que haya establecido en ese momento.
Los patrones de referencia tienen un doble objetivo: señalar la localización de los patrones
emitidos con EpM (que pueden ser menos visibles oftalmológicamente que las exposiciones
al 100 %) y servir de referencia visual de dosimetría para el facultativo. En los tratamientos
en los que no se usa la administración de puntos finales, lo habitual es que los facultativos
usen la apariencia visual de las lesiones como guía para ir ajustando la potencia del láser
y mantener un nivel de lesión constante.
Las exposiciones con un porcentaje de EpM bajo no proporcionan esa guía, pero si
se emiten los puntos más externos (las referencias) del patrón con el 100 % de la dosis
completa, esta pista visual se conserva. Como las quemaduras de referencia del patrón
van variando su efecto a medida que el láser va avanzando por la retina, el usuario puede
ajustar la potencia del láser para mantener la misma apariencia de lesión que la quemadura
de dosificación original.
®
Sistemas láser de escaneo oftálmico PASCAL
Synthesis
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88292-ES, Rev. D
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